Сайт о современной художественной ковке металла мастерами

Модно, Стильно, Красиво.

picture

picture

Художественная эмаль
Художественная эмаль возникла еще во времена Древнего Египта сначала как имитация драгоценных камней и применялась как...

picture

Кованая роза
Конечно, кованая роза больше подходит для оформления классических, ренессансных, барочных интерьеров, чем для современных...

picture

Кованая оружие
Ковка оружия бесспорно является одним из направлений наших работ, потому что кованая оружие - это замечательный сувенир...

Интересные статьи:

Химический анализ
Химический анализ металлических порошков по своей методике аналогичен общему анализу металлов. Исключением является лишь определение кислорода...

Читать далее

Механикотехнологические методы испытаний
Первое место занимает ситовый анализ, который во многих случаях удовлетворительно характеризует технологическую Пригодность порошка. В последнее время отмечается стремление стандартизировать необходимые для ситового анализа приборы и ход анализа...

Читать далее

Исследования химической активности
Общеизвестно, что металлический порошок при соприкосновении с воздухом активно поглощает кислород. Однако это Окисление может распространяться в различной степени, причем скорость реакции зависит от размеров и состояния поверхности...

Читать далее

Влияние атомарного водорода НА СТРУКТУРЫ МЕТАЛЛА ПОЛУПРОВОДНИКА

21-02-2017

Представлены результаты экспериментального исследования воздействия атомарного водорода на Гете роструктуры на основе Si и Ge. Показано, что отделка сопровождается изменениями ВАХ. Доминирующими процессами является хемосорбция водорода на поверхности, изменение гетеромежи и диффузия атомов пленки в приповерхностные слои полупроводника.

Создание необходимого вида вольтамперной характеристики (ВАХ) в структурах металл полупроводник является актуальной и практической задачей. Но для существенного изменения вида ВАХ в таких структурах, как правило, необходимы или высокие температуры (более 700 К), или действие высокоэнергетических частиц, в частности потока электронов, ионов, лазерной обработки и т.д.. Поэтому создание необходимой ВАХ при температурах близких к комнатной является актуальной задачей, поскольку при этом не изменяются основные электрофизические параметры объемных частей структур. Для такой низкотемпературной обработки была использована действие атомарного водорода при температурах кристалла до 320 К. Кроме того, вольтамперные характеристики структур металл полупроводник могут дать ценную информацию о гетеромежу, а также о примесной и зарядовый состояние приповерхностных слоев кристаллов [13].

Для исследования были выбраны две системы на основе Si и Ge. Атомарный водород получался путем диссоциации молекулярного водорода в плазме высокочастотного разряда. Молекулярный водород выделялся из водного раствора KOH (20%) электролизом. Далее водород пропускался через форбалон для улавливания капель KOH, осушительных столбик, заполненный силикагелем, и поступал в рабочей камеры. Концентрация атомов водорода измерялась калориметрич

• Матюшин М., Жавжаров Е. Л., 2010 им способом и составляла около 1019 м 3 при давлении в рабочей камере 20 Па.

Контакты с лицевой стороны кристаллов получались термическим испарением в вакууме через маску. Контакт с тыльной стороны кристалла создавался с помощью пасты Ga, которая механическим втиранием наносилась на всю поверхность. Большая площадь этого контакта обеспечила омическое характер контакта, что было проверено экспериментально.

ВАХ снимались при помощи автоматизированного измерителя характеристик полупроводниковых приборов Л256. Производимые образцы размещались на специально изготовленном столике с системой подвижных прижимных контактов. Система прижима состояла из двух упругих элементов с различной упругостью, что обеспечило плавное и надежное прижима контакта в металлической пленки и исключило возможность повреждения пленки.

Величина работы выхода электрона (РОЭ) определялась на основе измерений контактной разности потенциалов (КРП) AWF методом динамического конденсатора [4]. Эталоном был зонд из золота (WFAu == 4,3 эВ) [5]. Для исключения погрешности, связанной с атмосферными колебаниями, потенциал эталонного электрода перед измерениями проверялась по эталонным образцом Au 975 пробы. Расхождение контактной разности потенциалов вдоль поверхности для всех опытных образцов не превышала ± 0,01 эВ.


Другие статьи по теме:
 Снижения коррозионной стойкости нефтепроводов
 Изучение свойств ПХ
 Изготовление специальных порошков. Порошки карбидов
 Обработка металлов.
 Методы исследования металлических порошков

Добавить комментарий:
Введите ваше имя:

Комментарий:

Защита от спама - введите символы с картинки (регистр имеет значение):